光學制造的嚴重需求與特色
光學制造嚴重需求
光學制造技巧作為古代緊密產業的焦點支柱，深入影響著激光核聚變、空間對地不雅測、深空探測、極紫外光刻等要害範疇的成長過程。跟著全球科技競爭加劇，光學制造技巧不竭衝破傳統限制，向著高精度、高概況東西的品質標的目的邁進，光學元件的面形精度和概況東西的品質已成為權衡國度高端制造才能的主要標志。
強激光體系作為超緊密制造技巧的典範代表，在強激光體系的焦點機能（如穩固性、功率輸入及光束東西的品質）中，光學元件的超緊密制造技巧起著決議性感化。以激光核聚變裝配為例，年夜口徑透鏡需求完成極高面形精度與亞納米級概況粗拙度，同時對元件裝調精度請求到達微弧懷抱級，體系需在高功率下堅持持久穩固性。
在空間光學遠感及深空探測範疇，光學體系中的光學元件機能請求越來越高。重要表示在：口徑越來越年夜，曾經進步至4 m量級以上；輕量化率越來越高，從以往的60%到現在85%以上；面形精度請求越來越高，從0.020λRMS（均方根）降至0.01λRMS以下。
在極紫外光刻範疇，光刻體系的焦點是高精度的反射鏡組，凡是由多塊超滑膩反射鏡構成。這些反射鏡需求顛末超緊密加工和特別鍍膜，以確保極高的反射率和低散射。這些反射鏡面形精度的峰谷值（PV）小于1 nm，概況粗拙度需把持在0.1 nm（RMS）以下，任何渺小缺點如原子級凹凸均會招致光線散射，影響成像辨別率。
綜合來看，強激光體系、空間光學體系、極紫外光刻機等嚴重設備的極限技巧目標對超緊密加工工藝提出了近乎嚴苛的挑釁，此類需求標志著光學制造技巧向著原子級制造的標的目的疾速成長。
進步前輩光學超緊密制造特色
隨同著光學元件制造需求的加強，今朝光學元件的重要外形類型涵蓋平球面、非球面、柱面、錐面、不受拘束曲面等多品種型。多樣化的光學元件特色、機能請求給光學元件的超緊密制造技巧帶來了極年夜挑釁。其特色與挑釁如下：
低頻高精度：外形復雜、陡度高的光學元件的利用場景對光學體系的波前精度提出嚴苛的制造請求，對元件的單鏡面形高精度制造技巧、面形高精度檢測技巧、體系級元件組合修配技巧提出了很年夜挑釁。
中頻淺紋理：強激光等範疇的光學元件相較于傳統元件對中頻把持請求更高，對器件低毀傷成形技巧、中頻誤差光滑技巧、中頻誤差高精度丈量與修整技巧帶來宏大挑釁。
高頻超滑膩：相較于傳統元件，極紫外光刻等範疇的光學元件在低缺點、超滑膩方面請求極高，對低毀傷成形技巧、拋光毀傷把持技巧、超滑膩概況處置技巧、清洗技巧等帶來宏大挑釁。
姿勢高精度：光學元件的利用場景對光學面與裝調基準的絕對地位精度提出了更為嚴厲的制造請求，對加工檢測全流程基準傳遞與把持技巧帶來較年夜的挑釁。
綜上所述，進步前輩光學制造差別于傳統元件的高精度制造請求也給技巧、工藝和設備的成長供給新的動力，面向進步前輩光學元件制造的技巧應具有3個特色：拋光往除量分布的高正確性把持；往除函數效力和標準的年夜范圍調控才能；概況光亮度和粗拙度的工藝把持方式。以完成進步前輩光學元件控形控性全頻段高精度制造。同時，需求構成單項制造技巧瓶頸衝破為基本、全制造流程要害環節的全鏈路協同制造才能晉陞的成長新范式。
超緊密制造技巧成長近況
光學元件資料制備技巧
今朝全球年夜尺寸光學玻璃的財產化制備才能高度集中，僅美國康寧公司（Corning）、德國賀利氏公司（Heraeus）、japan(日本)小包養網心得原公司（Ohara）及德國肖特公司（Schott）等企業把握600 mm以上口徑產物的批量生孩子技巧。此類企業憑仗其在分歧系列資料所表示出的優良光學平均性（折射率動搖極低）、極低熱收縮系數和極低羥基含量等特色，已成為各類光學體系中要害光學元件的焦點基材。
以低羥基、高光學平均性、高透過率、低殘余應力的高真個石英玻璃資料為例，其生孩子工藝復雜，制備技巧難度年夜。固然實際上有3種低羥基石英玻璃可研制工藝（直接法、PCVD直接法、分解石英砂電熔法），但今朝只要美國、japan(日本)、德國等多數國度把握穩固批量生孩子技巧，且均采用VAD（軸向氣相堆積法）直接法氣相分解技巧，其重要機能目標如表1所示。
國際傳統石英店家以直接法CVD（化學氣相堆積法）生孩子工藝技巧為主，受限于工藝機理，石英產物的純度的晉陞存在難度，同時其反映機理決議了其產物羥基含量較高，年夜尺寸低羥基石英玻璃今朝還重要依靠入口。
超緊密成形技巧
典範光學元件具有曲面外形復雜、高陡度、變曲率、資料硬脆，以及高面形精度、高概況東西的品質、強抗激光輻照毀傷等制造請求，元件需求采用緊密/超緊密磨削—超緊密拋光的復合工藝鏈方式停止制造，磨削加工可以或許高效往除資料并包管元件面形精度，而拋光加工可以或許取得納米級概況粗拙度并打消磨削亞表層毀傷層。
超緊密磨削是磨削概況外形精度<1.0 μm、表面粗糙度Ra < 25 nm、亞表面損傷深度接近于零的加工方法，主要面向硬脆材料的精密超精密加工。在硬脆光學元件超精密磨削方面，國外以德國不萊梅大學、英國克蘭菲爾德大學為代表的高校，以英國克朗菲爾精密工程公司（Cranfield Precision），美國慕爾工業公司（Moore）、普瑞思泰克有限公司（Precitech），日本長瀨產業株式會社（Nagasei），德國施耐德光學機械公司（Schneider）及薩特隆公司（Satisloh）、聯合磨削集團（United Grinding）等為代表的超精密及精密磨削機床公司對超精密磨削加工工藝及超精密磨削機床進行了系統全面的研究，并成功應用于直徑達數米的天文望遠鏡子鏡、尺寸數百毫米的紅外光學透鏡及自由曲面、尺寸數十毫米的微透鏡陣列微結構功能表面等一系列超精密光學元件的加工，能夠獲得亞微米級面形精度及納米級表面粗糙度。國內以哈爾濱工業大學、湖南大學、大連理工大學等為代表的高校及中國科學院長春光學精密機械與物理研究所（簡稱“長春光機所”）、中國航天科技集團有限公司第五研究院第五〇八研究所（簡稱“航天508所”）、中國科學院光電技術研究所（簡稱“成都光電所”）等為代表的研究所都對光學元件等硬脆材料超精密元件的制造進行了系統研究并成功應用于導彈整流罩加工、硅片磨削、大尺寸碳化硅天文望遠鏡反射鏡及多種尺寸、不同材料的光學元件加工。光學元件的超精密磨削成形需要實現光學功能表面面形精度、表面質量、精密磨削形變的協同控制，目前國內外在超精密磨削工藝、缺陷控制、低應力形變成形等方面都存在較大差距。
超緊密拋光技巧
對于光學元件的復雜構造、高陡度、變曲率等特色，請求形位精度到達亞微米級，全頻段誤差到達納米級，近無（亞）概況缺點，超緊密加工難度極年夜。普通地，元件采用氣囊/射流拋光技巧實際現器件磨削損壞層的疾速往除及概況光亮度的疾速晉陞，并且堅持磨削后的初始輪廓精度；磁流變/離子束拋光完成概況面形誤差的高精度修形，尤其是低中頻誤差修改；小東西拋光在保形拋光條件下完成光滑概況的碎帶誤差，使得面形誤差光滑可修。超緊密拋光重要存在的挑釁是構造束縛下光學元件概況及亞概況缺點把持和全概況輪廓全頻段納米精度斷定性把持。
針對光學元件的超緊密拋光，國外研制了所需求的焦點設備，從裝備效能和機能上，基礎上能知足拋光需求。例如，以美國普瑞泰克國際無限公司（QED Technologies International Inc.）、德國NTG新技巧無限公司（NTG Neue Technologien GmbH）、英國澤科無限公司（Zeeko Ltd）、美國OPTIMAX控股無限公司（Optimax Systems Inc.）等公司，研制了國際最進步前輩的磁流變拋光裝備、離子束拋光裝備、氣囊/射流拋光裝備和小東西裝備，具有較高的復雜曲面光學元件加工精度。國際多家單元同時也在展開復雜曲面超緊密拋光裝備研發，但是受國外入口限制，國際裝備研制與國外進步前輩程度有必定差距。在磁流變拋光設備方面，存在小型磁流變拋光頭效力低、穩固性差、曲面加工往除函數畸變嚴重、曲面傾角加工范圍不敷年夜等題目；在離子束拋光設備方面，存在小束斑調控和雜質濺射淨化的題目；在射流拋光設備方面，存在往除效力低、穩固性和靠得住性不高級題目。
此外，光學元件復合拋光工藝技巧利用普遍，成都光電所、長春景機所等研討院所，國際優良企業如長光集智光學科技無限公司、北京國看光學科技無限公司等都應用多類型拋光手腕完成非球面光學元件的納米級精度制造，典範器件如光刻物鏡等制造精度RMS可達2 nm以下。將來需求聚焦影響元件機能的要害精度、完全性特徵，霸佔單項拋光工藝要害技巧，基于多目標協同把持優化復合加工工藝，進步光學元件拋光精度、斷定性，延長制造周期，知足體系對光學元件的批量制造需求。
超緊密檢測技巧
光學元件東西的品質直接影響全部光學體系的效力及穩固性，為了包管光學元件在現實利用經過歷程中的機能達標與高靠得住性，針對光學元件的超緊密檢測技巧至關主要。光學元件緊密檢測技巧重要分為2個方面：面向元件自己制造目標檢測技巧，如幾何量檢測、面形檢測、缺點檢測等；面向元件利用機能目標的檢測技巧，如毀傷機能檢測、周遭的狀況順應性檢測等。
跟著光學制造行業自己多年的成長，面向元件制造目標的檢測技巧的檢測系統很是成熟，國際外都有浩繁的檢測尺度及案例可控參考。在元件曲率半徑、離軸量、偏疼等幾何量檢測方面，重要采用接觸式三坐標機、輪廓儀及非接觸式光學輪廓儀停止檢測，檢測精度可到達幾十微米量級。在面形檢測方面，干預儀是今朝公認的檢測精度最高的檢測方式，今朝中低頻面形誤差重要是用菲索型干預儀停止檢測，精度可到達納米量級，高頻誤差則應用白光干預儀停止檢測，辨別率可以或許到達0.1 nm。跟著光學體系design請求慢慢進步，越來越多的復雜曲面元件被利用于光學體系，針對復雜曲面檢測慣例干預檢測方式面對檢測實際不完美、檢測通用性差、缺少承認尺度等題目，而新型的光學非接觸式輪廓儀固然對各類曲面有較強的通用性，但仍面對檢測精度缺乏的題目。
在元件利用機能目標檢測方面，毀傷機能的檢測請求對光學元件概況缺點檢測敏銳度要到達亞微米量級，對元件亞概況缺點、體缺點及資料接收性缺點等也提出了新的需求。現出缺陷檢測不論是國際仍是國際尺度，仍著重于目視檢測，存在檢測敏銳度差、重復性缺乏、漏檢率高、效力高等題目。若何完成多類型缺點的多模態、高精度、高效力檢測，是光學元件檢測面對的一年夜挑釁。
綜合來看，光學元件檢測技巧不只需求完成面形、幾何量等慣例目標檢測，還因其應用請求，對其缺點、毀傷測試提出了更高請求，必定需求在超緊密檢測環節上有新技巧、道理及方式衝破，終極完成面向利用機能檢測，助力光學體系東西的品質進一個步驟進步。
超緊密概況處置技巧
光學元件概況處置技巧重要指的是概況超緊密鍍膜技巧。光學概況必需鍍制特別design的激光薄膜如增透膜、減反膜、分光膜等，才幹在光學體系中應用。
以利用于激光核聚變的激光薄膜為例，依據光源性質、毀傷機理的分歧，激光薄膜年夜致分為2類：脈沖激光薄膜與持續激光薄膜。對于脈沖激光薄膜，國際外主流技巧計劃是采用電子束共蒸發技巧，經由過程電子束加熱、蒸發膜料包養網使其堆積在待鍍膜基底上，應用多蒸起源即可完成復合膜層的制備。中國迷信院上海光學緊密機械研討所（簡稱“上包養海光機所”）激光薄膜團隊勝利制備出尺寸為810 mm×430 mm×90 mm、p偏振光透射率高于98%、消光比優于100∶1、激光毀傷閾值高于14 J/cm2（波長1 063 nm，脈寬5 ns）、反射波面峰谷值（PV）優于0.7λ、透射波面PV優于λ/3的偏振薄膜元件，完成了我國年夜尺寸激光偏振薄膜從無到有的衝破。同濟年夜學也將復合薄膜應用于水冷窗口，完成很是規周遭的狀況中脈沖激光的高毀傷閾值。成都光電所2000年前后在相干項目支撐下睜開年夜口徑激光薄膜的研討，經由過程技巧的更換新的資料、迭代，采用電子束蒸鍍技巧制備的納秒脈沖激光反射薄膜具有高平均性、高反射率、高毀傷閾值和高面形順應性等特色，勝利利用在中國工程物理研討院、中國迷信院理化技巧研討所等單元年夜型激光項目標自順應光學分體系中，經體系試驗驗證激光薄膜的近紅外年夜光斑毀傷閾值在70 J/cm2以上。對于持續激光薄膜，薄膜的毀傷閾值與接收有著較為親密的關系，為下降光學薄膜及光學元器件接收需求晉陞激光薄膜的反射率和概況滑膩水平，為此濺射計劃成為重要手腕。法國LMA試驗室從2008年開端研討在氧化鉭膜層中摻鈦的技巧道路，在2017年的公然報道了直徑350 mm的1 064 nm反射鏡小批量生孩子，最好的薄膜接收0.3 ppm以下，應用在了激光干預引力波地理臺（LIGO）體系中。在國際上海光機所、同濟年夜學、中國迷信院年夜連化學物理研討所等單元先后公然報道采用離子束濺射技巧計劃能將用于持續激光的薄膜接收降至1 ppm以下。
已有研討任務與存在題目
已有研討任務
國際在年夜尺寸光學元件及體系的制造上重要研制單元包含長春景機所、成都光電所、上海光機所、中國迷信院南京地理光學技巧研討所、中國工程物理研討院、航天科技團體等，但該類產物在與國外產物目標上仍然存在不少差距。長春景機所研制口徑為2.05 m的中國巡天空間看遠鏡（CSST）主鏡，面密度僅為85.3 kg/m2，且長春景機所初次在年夜型光學體系中利用了基于盤算機把持光學概況成型技巧（CCOS）的異質軸東西來克制邊沿效應，并在φ1.5 m的拋物面反射鏡長進行精緻拋光，獲得反射鏡全孔徑面形優于λ/50 @632.8 nm，中頻面形優于0.64 μrad（有用孔徑）。中國迷信院光電技巧研討地點國際率先展開年夜型反射鏡應力盤技巧研討，聚焦地基看遠鏡光學體系制造，完成4 m非球面反射鏡的研制。
針對年夜口徑光學元件特色，同濟年夜學緊密光學工程技巧研討所展開了鍍膜工藝優化研討，經由過程退火及摻氫等工藝有用將非晶硅膜的消光系數晉陞16倍（@1 064 nm），同時下降機械損耗；在超紫外射線（XUV）高精度薄膜光學體系方面，也構建了新的膜層反射與散射的實際模子，完成了XUV反射鏡加工，完成了從車削、拋光再到準確定形，所研制的240—500 mm單晶硅立體反射鏡面精度形達1.2 nm。
存在的題目
國際進步前輩光學制造技巧與國外進步前輩程度的差距重要表現在焦點技巧、要害設備、資料工藝及財產鏈協劃一多個維度。
技巧研討程度缺乏。國際在資料研制與制造層面基本性、機感性研討技巧程度缺乏，與國際進步前輩程度有明顯差距。面向全頻段誤差把持的要害技巧缺少實際領導，一方面單項技巧的衝破存在瓶頸，另一方面在多項技巧之間的技巧壁壘招致體系性的跨標準誤差耦公道論模子尚未構成，詳細表示為智能工藝優化才能單薄，以及面向極端工況的加工穩固性難以包管等方面。此外，國際對原子級拋光的微不雅往除機制（如量子力學感化、概況原子遷徙紀律）研討仍逗留在試驗不雅測階段，缺少分子動力學模仿等實際東西支持，這制約了國際拋光技巧從極限精度、極限概況東西的品質向原子級制造的跨越式成長。
設備程度缺乏。國際很多高端裝備依靠入口，如高精度光學加工裝備、檢測裝備及鍍膜裝備等。這不只增添了研制本錢，還限制了國際自立研制才能的晉陞。以年夜口徑反射鏡為例，美國勞倫斯利弗莫爾國度試驗室（LLNL）采用的LODTM立式車床可完成1.65 m工件的納米級加工（<10 nm），而國產設備在關鍵性能上存在顯著差距，且連續工作數小時后精度漂移顯著。檢測設備主要依賴于歐美幾家公司，如美國Zygo公司的干涉儀測量重復精度可以達到60 pm，部分在售產品的絕對測量精度優于1 nm，目前國際范圍內精密光學元件與系統的交付普遍認可該公司產品的檢測結果。鍍膜設備同樣以德國布勒萊寶公司的系列鍍膜機、日本光馳公司的系列鍍膜機為主的產品代表了行業的先進水準。以上3類設備，雖然國內都有相關廠商生產、研制類似產品，但核心部件國產化率低且技術水平仍然具有較大差距，制造設備所能加工達到的極限精度與國外同類產品仍有一定差距，同時國產檢測設備所能實現的重復測量和絕對測量精度都顯著弱于國外同類產品。
產學研聯合不敷慎密。產學研聯合不敷慎密，很多高校和科研院所的科研結果往往逗留在試驗室階段，高校前沿研討與企業工程化需求存在技巧斷層而無法完成財產化，進而招致結果轉化效能低下。國際企業介入度較低，招致市場需求與科研標的目的脫節，尚未構成“基本研討—技巧開闢—財產化”的閉環立異鏈，缺少像美國“國度制造立異收集”（NNMI）那樣的產學研協同平臺，制約了技巧結果的工程化利用。比擬較于產物全周期研制經過歷程，金融機構往往介入和參與的較晚，沒無形成“投早投小”金融氣氛。包養網
下一個步驟任務提出
為了盡快趕超國外進步前輩技巧程度，提出從以下5個方面停止進步前輩光學元件財產進級和“洽商”要害技巧攻關。
加大力度頂層design與政策支撐。國度應出臺相干專項成長計劃，明白將來5—10年的成長目的和重點義務，建立專項資金，支撐要害技巧研發和財產化。資金應重點投向資料研發、設備制造、工藝優化等焦點環節，確保要害技巧的衝破。樹立以年夜學科、年夜範疇為主題的多學科穿插融會的新型研發機構，在系統計劃上摒棄傳統的單一學科為主的科研單元，從體系體例上為從基本研討到工程利用的融合貫穿發明前提。
衝破要害資料與焦點技巧。光學基材範疇與國外進步前輩程度存在明顯差距，重要表現在資料純度、光學平均性、熱穩固性等要害目標上。例如，國外高端光學玻璃（如德國肖特公司、japan(日本)小原公司等）已完成納米級平均性和超高透光率，而國際產物在雜質把持、折射率分歧包養網性等方面仍有明顯缺乏。應加大力度高純度原資料研發，衝破要害資料制備技巧瓶頸。引進并自立研發高精度熔煉、成型和檢測裝備，晉陞制造工藝程度。經由過程以上辦法，慢慢減少與國外差距，完成光學基材的機能晉陞和自立可控。
晉陞設備制造才能。自立研發高端裝備，針對高精度光學加工裝備、鍍膜裝備、檢測裝備等，建立專項攻關項目，集中氣力衝破要害技巧。推進裝備國產化替換，制訂裝備國產化替換打算，優先采購國產裝備，慢慢削減對入口裝備的依靠。推進裝備進級盡快完成跟跑狀況，完成設備制造才能晉陞，如亞概況毀傷克制、缺點敏感鍍膜、跨標準檢測、極高潔凈度把持等均要向頂尖程度成長。制訂國產光學裝備行業尺度（如對標ISO國際尺度），推進裝備焦點模塊（如光學鏡頭、激光器）接口通用化，下降調換門檻。
優化工藝與技巧尺度。針對光學元件的超緊密加工，展開工藝優化研討，樹立尺度化工藝流程，進步產物的分歧性和靠得住性。組織行業專家制訂光學元件的技巧尺度，涵蓋資料機能、加工工藝、檢測方式、概況處置等方面，推進行業規范化成長，盡快在國際樹立一套可利用于進步前輩光學超緊密制造行業的評價方式和評價系統。
加大力度產學研聯合與結果轉化。激勵高校、科研院所與企業共建結合試驗室或研發中間，聚焦光學元件的要害技巧研發和財產化。支撐龍頭企業牽頭組建立異結合體，整合高低游資本，展開協同攻關。激勵科研職員介入企業技巧研發，增進技巧與市場的慎密聯合。激勵金融機構在晚期介入到結果轉化過程中來。
總結與瞻望
進步前輩光學超緊密制造技巧是古代緊密產業的焦點支柱，其技巧程度直接決議了國度高端制造才能的下限與利用廣度。以後，我國在該範疇已獲得階段性停頓，如神光Ⅱ進級裝配的勝利運轉、年夜口徑激光偏振薄膜的自立衝破，以及復雜曲面元件超緊密拋光工藝的勝利利用，展示了國際科研團隊的技巧積聚與立異才能。但是，與國際頂尖程度比擬，我國在要害資料制備、高端設備研發、全頻段誤差把持、缺點動力學研討等方面仍存在明顯差距。以低羥基石英玻璃、年夜口徑反射鏡制造為代表的“洽商”技巧，以及檢測裝備、鍍膜工藝裝備對入口的高度依靠，嚴重制約了進步前輩光學體系的自立可控成長。此外，產學研協同缺乏、工藝尺度化滯后、跨學科人才缺乏等題目，進一個步驟加劇了技巧轉化與財產進級的難度。
為衝破上述瓶頸，需從多維度構建體系性處理計劃。在計謀層面，應強化頂層design，制訂專項成長計劃，加年夜資金與政策傾斜，推進基本研討與工程利用的深度融會。在焦點技巧攻打開，需聚焦高純度資料分解、超緊密加工設備國產化、多頻段協同制造工藝等標的目的，衝破資料平均性、毀傷閾值、設備精度等焦點目標限制。同時，應加快構建籠罩“資料—工藝—檢測—退役”全鏈條的技巧尺度系統，推進工藝優化與缺點把持的尺度化、智能化。在協同立異方面，需深化產學研一起配合機制，依托新型研發機構整合跨學科資本，增進高校、院所與企業的技巧共享與結果轉化，構成“需求牽引—技巧衝破—財產落地”的良性輪迴。
瞻望將來，跟著新資料、新工藝、智能設備等技巧的迭代衝破，進步前輩光學超緊密制造技巧將邁向更高精度、更低毀傷、更強穩固性的新階段。經由過程全財產鏈的協同盡力，我國無望在光學資料發展、非接觸能場加工、跨標準缺點檢測等要害範疇完成彎道超車，慢慢減少與美、德等國的技巧代差。終極，經由過程技巧自立化與財產進級，推進我國光學體系在激光核聚變、空間對地不雅測、深空探測、極紫外光刻等計謀範疇施展更高文用，為全球光電技巧的成長進獻中國聰明與中國計劃。
（作者：張鑫、張瀛懷、張斌智、陳太喜，季華試驗室；海闊、張云飛、臧仲明、曾鵬、吳明濤、李凱隆，中國工程物理研討院機械制造工藝研討所；李資政，中山年夜學物理與地理學院；閆力松，華中科技年夜學光學與電子信息學院；錢宜剛，中天科技無限公司；焦宏飛，同濟年夜學物文科學與工程學院；編審：楊柳春；《中國迷信院院刊》供稿）
